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6.2.0 상보형 MOS(CMOS 기술)

그림 6.2 Gate oxides as thin as 1.2nm (SiO2 분자의 4개의 크기)

 

> MOSFET의 기본적인 공정 순서는 다음과 같다. 

 

 > Trend 영역 Etch - 산화막 CVD - CMP 평탄화 - 산화막 &  Poly Si 증착 - Gate Photo Patterning - Source Drain IIP. 

그림 6.3 Schematic drawing of an N-channel MOSFET in the off state (a) and the on state (b). (c) and (d) show a P-channel MOSFET in the off and the on states.

 

 > 그림 6.3 (a)는 N Channel MOSFET 또는 NFET, NMOS라고 한다. 

 

 > NFET의 전도되는 채널이 전자로 구성되어 있어 N 형이라고 하며 PFET은 정공으로 되어있어 P 형 채널의 소자이다. 

 

 > 게이트와 드레인의 가해지는 전압은 Vg, Vd이며 0V와 공급전압 Vdd 사이의 범위를 갖는다. 

 

 > NFET의 Body는 0V가 걸리고 PFET의 Body는 Vdd에 연결되어 PN 접합은 항상 역전압으로 걸려서 전류가 흐르지 않는다. 

 

 > NFET과 PFET의 채널은 반대이기 때문에 Vg=Vdd일 때 NFET은 켜지고 PFET은 꺼진다. 

 

 > Vg=0V 일 때 PEFT은 켜지고 NFET은 꺼진다. 

 

 > 이러한 상보하는 성질을 활용한 CMOS 또는 상보형 MOS라고 부르는 저전력 회로를 설계할 수 있다. 

그림 6.4 Three views of a CMOS inverter. (a) A CMOS inverter consists of a PFET pull-up device and an NFET pull-down device. (b) Integration of NFET and PFET on the same chip. (c) Layout of a CMOS inverter.

 

 > 그림 6.4의 Inverter가 CMOS의 대표적인 예이다.

 

 >  그림 6.4 (a)에서 Vg=Vdd 일 때 NFET은 켜지고 PFET 꺼지면서 출력단 Vout은 0V가 된다. 

 

 > Vg=0V일 때 NFET은 꺼지고 PFET은 켜지면서 출력단 Vout은 Vdd가 된다. 

 

 > Inverter가 작동 중 따라서 두 트랜지스터는 중 하나는 꺼지게 되면서 다른 종류 회로보다 더 적은 전력을 소모한다. 

 

 > CMOS를 형성하기 위해선 Body가 N, P형 두 가지 형태여야 한다. 

 

 > 이를 위해서 그림 6.4 (b) 처럼 P-sub에 N type 도핑을 해줘서 N-Well을 만들어주면 된다. 

 

 > 그림 6.4 (c)는 CMOS의 Layout이며 Vin, Vout, Vdd는 금속 선으로 연결된다. 

 

 > PFET이 NFET 보다 긴 이유는 PFET의 Mobility가 느리기 때문에 NFET의 Mobility와 맞춰주기 위함이다. 

 

Reference 

-. Chenming Calvin Hu, Modern Semiconductor Devices for Integrated Circuits, PEARSON(2013)

 

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