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6.11.0 직렬 저항과 유효 채널 길이의 추출 > Transistor의 Gate 길이 Lg는 실제 공정에서 만든 것과 Layout에서 설계한 길이 Ldrawn와 다르다. > Patterning 과정에서 길이의 변화가 있으며 이 차이를 최소화 하는 OPC(Optical Proximity Correction)과 같은 기술이 도입된다. > 하지만 차이를 완전한 0으로 만들기는 어려운 부분이 있고 소자를 해석할 때 유효 채널 길이 Leff를 도입하였다. > Ldrawn - Lg 차이를 △L 이라고 하고 이 △L을 측정하는 방법은 아래 관계식으로 구할 수 있다. > Ldrawn만 다른 세개의 다른 MOSFET을 Ldrawn vs. Vds/Ids 그래프를 그리면 다음과 같다. > Vds/Ids는 L..