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3.2.1 실리콘의 산화 > 실리콘의 산화물은 SiO2이다. > SiO2는 여러 목적으로 사용되며 그중 하나는 도펀트를 주입시킬 때 마스크 역할이 있다. > 단결정 Si 표면 위에 도펀트 Implantation을 하게 되면 Si 결정 사이로 도펀트 원자가 원하지 않는 잎으로 빠져나가는 Channeling 효과를 줄을 수 있다. > Channeling을 줄일 수 있는 이유는 단결정 Si 위에 형성된 SiO2 막질은 Si 보다 더 Amorphous 하기 때문이다. > SiO2는 실리콘 MOSFET에선 필수이다. > FET(Field Effect Transistor)를 구현하기 위해 Metal 과 Si 사이에 절역막은 필수이며 SiO2가 보통 사용된다. > 또한, 배선을 여러 Layer로 구성할 때 서로 다른..